BL8S1 - 総合材料評価 II (X線反射率)

ビームライン概要

有機・無機多層膜のＸ線反射率測定やＸ線ＣＴＲ散乱測定を迅速・簡便かつ精度よく行う.

研究利用分野

Ｘ線反射率では磁性体と保護膜など各種多層膜の厚さと組成分布を迅速に非破壊測定．Ｘ線ＣＴＲ散乱では単結晶極薄膜の１原子層レベルでの組成，厚さ，界面急峻性等を非破壊で測定可能．

ビームライン性能(計算値)

光エネルギー

9.5〜14 keV (0.13〜0.09 nm)

ビームサイズ

0.42 mm×0.14 mm

分解能 (E/ΔE)

> 2000 @ 12keV

光子数

1×10¹¹ Photons/sec

測定装置仕様，特徴

シンチレーションカウンタ（NaI）の他に二次元検出器（PILATUS 100K）を備え，表面すれすれ入射条件を利用したエピタキシャル薄膜および基板格子の逆格子マッピング測定や半導体薄膜の結晶性評価や構造変化の解析を可能とする．

ビームライン及び測定装置概略図

(参考) 他施設の類似ビームライン

SPring-8

BL19B2

Photon Factory

BL1A, BL1B